公司动态

　　半导体制造是一项高精密度的工艺，需要在极其洁净的环境中进行。任何微小的杂质或灰尘都可能影响半导体芯片的性能和可靠性。因此，半导体制造过程中需要使用各种过滤和净化设备，以保证空气、水和化学品的纯净度。

　　Taisei Giken是一家日本公司，专门生产各种过滤和净化设备，其中有名的是颗粒捕集器(Particle Trap)。颗粒捕集器是一种利用蜂窝状的陶瓷材料来捕捉空气中的微粒的设备，可以有效地去除0.01微米以上的颗粒物。颗粒捕集器的工作原理是，将空气从蜂窝状的陶瓷管道中通过，由于管道两端交替堵塞，空气被迫从多孔的管壁中穿过，而颗粒物则被留在管壁上。

　　颗粒捕集器在半导体制造中有广泛的应用，主要用于以下几个方面：

　　TFT LCD制造工艺：TFT LCD是一种液晶显示屏，需要在玻璃基板上形成薄膜晶体管(TFT)阵列和彩色滤光片。这个过程涉及到多次的沉积、光刻、蚀刻等步骤，需要使用大量的气体和液体化学品。颗粒捕集器可以用于去除这些化学品中的杂质，以防止在玻璃基板上产生缺陷或污染。

　　离子注入工艺：离子注入是一种向半导体衬底中引入杂质的方法，可以改变其电学性能。离子注入需要使用高能的离子束，这些离子束是通过加速器产生的。颗粒捕集器可以用于去除加速器中的灰尘和杂质，以保证离子束的纯度和稳定性。

　　蚀刻工艺：蚀刻是一种在半导体材料上雕刻图案的技术，可以使用化学反应或物理撞击的方式。蚀刻需要使用各种气体或液体的蚀刻剂，这些蚀刻剂中可能含有颗粒物，如果进入半导体材料，会导致蚀刻不均匀或损伤。颗粒捕集器可以用于去除蚀刻剂中的颗粒物，以提高蚀刻的质量和效率。

　　CVD工艺：CVD是一种化学气相沉积的工艺，可以在半导体材料上形成各种薄膜，如绝缘层、导电层、光学层等。CVD需要使用各种气体的前驱物，这些前驱物中可能含有颗粒物，如果沉积在半导体材料上，会影响薄膜的性能和均匀性。颗粒捕集器可以用于去除前驱物中的颗粒物，以保证薄膜的质量和一致性。

　　综上所述，Taisei Giken颗粒捕集器在半导体制造中发挥了重要的作用，为半导体芯片的制作提供了洁净的环境和材料。Taisei Giken颗粒捕集器的优点是具有高效的捕集性能、低的压力损失、长的使用寿命、易于清洗和更换等。